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LEF300 镭射系列干膜光阻剂

    LEF300 镭射系列干膜光阻剂

LEF300 镭射系列干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂,应用于内外层线路制作,特别适用于365mm波长、405nm波长或365nm 和 405nm激光直接成像系统。在酸性蚀刻以及电镀工艺中有出色的性能。

特色及优点

高解析度 -1-2 mil 线宽/线距

曝光速度快

附着力好

抗化学性好

性能稳定

项目
单位
LEF312
LEF315
备注
厚度
μm
30
38

感度*1
mj/cm2
9
12

最短显影时间
sec.
20
22

附着力*1*2(L/S=X/250)
μm
25
30

解析度*1*2(L/S=X/X)
μm
25
30

盖孔孔径
μm
//
6.0

*1:LEF315(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推荐硬化格数的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光机制作(UVE-HSP5K-11

*2:1wt%Na2CO3,30℃,最短显影时间x2

*3:3mils SEM图像。



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